%0 Journal Article
%T 不同制备方法对薄膜性能的影响
%A 王华清
%A 卢维强
%A 郝孟尧
%A 薛唯
%J 北京理工大学学报
%D 2008
%X 采用离子束反应溅射、等离子体辅助、射频离子源辅助、Kaufman离子源辅助比较不同制备方法对薄膜性能的影响.镀制了Ta2O5、SiO2两种材料的单层膜及由它们组成的多层膜.结果表明:离子束反应溅射能够制备出质量最好的激光膜,抗激光损伤阈值达到17.39J·cm-2,等离子体辅助和射频离子源辅助制备的膜层结构致密、散射比和吸收比小,Kaufman离子辅助制备的膜层各项性能指标都相对较低.
%K 薄膜特性
%K 散射
%K 吸收
%K 应力
%U http://journal.bit.edu.cn/zr/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20081020&flag=1