%0 Journal Article
%T 谷胱甘肽、表面活性剂共存体系对青蒿素过氧键稳定性的影响
%A 杨培慧
%A 苏章益
%A 周志军
%A 蔡继业
%J 分析化学
%P 367-370
%D 2006
%X 青蒿素的过氧桥键是其抗疟作用的关键部位。采用循环伏安法研究了谷胱甘肽、表面活性剂共存体系对青蒿素过氧键稳定性的影响。实验表明,当青蒿素浓度为1.0mmol/L,谷胱甘肽浓度≥2.0×10-5mol/L时,加入阳离子表面活性剂(1.0×10-5mol/L,DBDAB),在体系中形成了谷胱甘肽-青蒿素-DBDAB三元加合物,该加合物在-0.88V电位下还原,其还原峰电位比游离青蒿素的还原峰电位负移了240mV,其还原反应活化能升高了46.3kJ/moL,使青蒿素的过氧键更趋稳定;而阴离子表面活性剂对体系没有影响。进一步探讨了该三元加合物形成的电极机理。
%K 青蒿素
%K 谷胱甘肽
%K 表面活性剂
%K 循环伏安法
%U http://210.14.121.5:8080/fxhx/CN/abstract/abstract5941.htm