%0 Journal Article
%T 双重印迹法制备汞离子印迹聚合物及其性能研究
%A 汪竹青
%A 沈玉永
%A 吴根华
%A 何池洋
%J 分析化学
%P 449-453
%D 2009
%X 采用双重印迹法,以N-3-(三甲氧基硅基)丙基乙二胺为功能单体,四乙氧基硅烷为交联剂,表面活性剂(十六烷基三甲基溴化铵)和Hg2+为模板,合成出Hg2+印迹聚合物。聚合物中的表面活性剂和Hg2+分别由乙醇萃取和HCl洗涤除去,利用平衡吸附法研究了聚合物的吸附性能和选择识别能力,且探讨了实验条件对印迹聚合物吸附性能的影响。结果表明,在竞争离子Cu2+(或Cd2+)存在下,印迹聚合物具有较高的吸附能力和选择识别能力,最大相对选择系数k′>200,且可以循环使用。
%K 分子印迹
%K 测汞仪
%K 吸附
%K 汞离子
%U http://210.14.121.5:8080/fxhx/CN/abstract/abstract7189.htm