%0 Journal Article
%T 吡柔比星在羧基离子注入氧化铟锡电极上的电化学还原及其测定
%A 李硕琦
%A 杨玉飞
%A 杨少媛
%A 叶森云
%A 方华权
%A 胡劲波
%A 李启隆
%J 分析化学
%P 990-993
%D 2011
%X 采用离子注入技术将羧基离子注入到氧化铟锡(ITO)表面,制备了羧基离子注入氧化铟锡电极(COOH/ITO)。电极表面羧基的引入用X射线光电子能谱(XPS)进行表征。此电极被应用到了吡柔比星的电化学行为的研究及其测定当中。在COOH/ITO电极上,吡柔比星在5mmol/L磷酸盐缓冲溶液(pH7.2)中,出现还原峰,峰电位为-0.57V(vs.Ag/AgCl),峰电流与THP浓度在2.0×10-9～2.5×10-8mol/L和1.4×10-7～2.8×10-6mol/L呈线性关系,检出限为2×10-10mol/L。循环伏安法研究表明,此体系属于吸附控制的不可逆过程,COOH/ITO对吡柔比星的电化学还原过程产生较大的促进作用。
%K 吡柔比星
%K 羧基离子注入
%K 氧化铟锡
%K 循环伏安
%K 电化学
%U http://210.14.121.5:8080/fxhx/CN/abstract/abstract334.htm