%0 Journal Article
%T 高纯钨中二十五个痕量杂质元素的发射光谱分析
%A 蒋福生
%A 何少奇
%A 林华煦
%J 分析化学
%P 736-740
%D 1983
%X 本文对发射光谱胡测定纯钨中痕量杂质元素方法中的裁体、缓冲剂组份、电极规格以及激发电源参数进行了研究,拟定了以国产一米光栅摄谱仪、设备和试剂,一次摄谱,同时测定钠、铍、镁、钙、钡、铝、铜、锌、铁、锰、镍、钴、钛、钒、铬、钼、钪、镱、硅、铅、铋、锡、锑、镉、砷二十五个痕量杂质元素的方法.测定下限是0.004-4ppm,测定下限总量为22.414ppm,相对标准偏差为1.6-27.7%.操作简便快速,灵敏、准确.
%U http://210.14.121.5:8080/fxhx/CN/abstract/abstract11168.htm