%0 Journal Article
%T 三阶导数卷积伏安法测定痕量钼
%A 方惠群
%A 陈洪渊
%A 祁争健
%A R.
%A 内勃
%J 分析化学
%P 751-753
%D 1988
%X 用三阶导数卷积伏安法在悬汞电极上测定痕量钼(Ⅵ)。在0.10mol/LH2SO4,0.060mol/L苯羟乙酸,12.5%氯酸钠底液中Mo(Ⅵ)的检测限为0.009ppb(9.4×10-11mol/L)。并在该底液中测定了饮料,饮用水,雨水等样品中Mo(Ⅵ)的含量。
%U http://210.14.121.5:8080/fxhx/CN/abstract/abstract9798.htm