%0 Journal Article
%T 砷捕捉刻蚀剂反应速率常数研究
%A 罗瑾
%A 苏连永
%A 吴金添
%A 林仲华
%A 田昭武
%J 电化学
%P 270-273
%D 1995
%X 采用约束刻蚀剂层技术（ＣＥＬＴ）有可能实现纳米级的超微加工目的￣［１，２］。约束刻蚀层形成的方法之一是：通过电化学反应在模板表面上产生刻蚀剂，其在向外扩散过程中即与其它未有刻蚀作用的溶液组分发生快速均相化学反应，从而使刻蚀剂失去活性，刻蚀剂的扩散层厚度可约束在紧靠模板的范围内。而ＣＥＬＴ技术则取决于产生能对特定材料具有高度腐蚀性的腐蚀剂和具有合理的清除反应体系；象强氧化剂溴，邻菲绕啉铁（Ⅲ）和过氧化氢等均可作为刻蚀剂，Ｂａｒｄｅｔａｌ￣［３］等研究者借助扫描电化学显微镜（ＳＥＣＭ）通过电化学产生的溴和邻菲绕啉铁（Ⅲ）直接来刻蚀进行微加工，但未采用约束刻蚀层技术，所刻的线条较宽。本文研究溴和邻菲绕啉铁（Ⅲ）的均相捕捉反应速率常数，为利用约束刻蚀层技术进行微加工打下必要的基础。
%U http://electrochem.xmu.edu.cn/CN/abstract/abstract9724.shtml