%0 Journal Article %T 镍钨硼合金电沉积机理及镀层微晶尺寸 %A 杨防祖 %A 曹刚敏 %A 胡筱 %A 许书楷 %A 周绍民 %J 电化学 %P 169-174 %D 2000 %X 应用循环伏安、恒电位阶跃和X射线衍射(XRD)等方法研究了Ni_W_B合金电沉积特点和镀层微晶尺寸.结果表明,在以柠檬酸铵为络合剂的溶液中,Ni_W_B合金沉积层较Ni_W合金有较低的电化学活性.电位阶跃i~t曲线分析表明,在玻碳电极上Ni_W_B合金电结晶过程遵循扩散控制瞬时成核三维成长模式,且随过电位的增加,电极表面晶核数增多.XRD测试结果表明,随沉积电流密度提高,合金镀层微晶尺寸逐渐增大,说明电流密度提高将更加有利于Ni_W_B合金电结晶过程中的晶核生长. %K Ni-W-B合金 %K 电沉积 %K 成核机理 %K 晶粒尺寸 %U http://electrochem.xmu.edu.cn/CN/abstract/abstract9350.shtml