%0 Journal Article
%T 硫脲对镍电沉积的作用
%A 胡光辉
%A 吴辉煌
%A 杨防祖
%A 王森林
%J 电化学
%P 94-97
%D 2004
%X 　应用循环伏安和阻抗＿电位法研究了硫脲(TU)对玻碳电极和镀镍玻碳电极上镍沉积过程的影响.结果表明,在玻碳电极上镍的电沉积呈现明显的电化学成核机理,而在镀镍玻碳电极上则无此特征.TU的存在虽阻碍了Ni晶核的形成,但却能加速晶粒的生长.
%K 硫脲
%K 电沉积镍
%K 速控步骤
%K 阻抗_电位曲线
%U http://electrochem.xmu.edu.cn/CN/abstract/abstract9048.shtml