%0 Journal Article
%T NO和NO2在V2O5/AC催化剂表面的反应行为
%A 孙德魁
%A 刘振宇
%A 贵国庆
%A 黄张根
%A 刘清雅
%A 肖勇
%J 催化学报
%P 56-60
%D 2010
%X ？采用程序升温脱附、在线质谱和原位漫反射红外光谱等手段,比较了NO和NO2在V2O5及V2O5/AC催化剂表面的选择催化还原(SCR)反应行为.结果表明,氨以质子态NH4+和共价态NH3分子两种形态吸附于纯V2O5表面,V=O为氨的主要吸附活性位.无氧状态下,NO和NO2皆可与吸附于V2O5表面的NH3反应,并且NO2与吸附态NH3的反应活性高于NO.但在V2O5/AC催化剂表面,同样在无氧条件下,NO几乎不与吸附态NH3反应,而NO2却可以反应并生成N2.在V2O5/AC表面,NO很容易被气相O2氧化为NO2,然后参与SCR反应.可见,NO2是NO在V2O5/AC表面发生SCR反应的中间体.
%K 五氧化二钒
%K 活性炭
%K 氮氧化物
%K 氨
%K 选择性催化还原
%U http://www.chxb.cn/CN/abstract/abstract17605.shtml