%0 Journal Article
%T 氮氧化硅薄膜红外吸收特性的研究
%A 周顺
%A 刘卫国
%A 蔡长龙
%A 刘欢
%J 兵工学报
%P 1255-1259
%D 2011
%X ？利用等离子体增强化学气相沉积法沉积氮氧化硅（SiOxNy）薄膜，通过X射线光电子能谱仪、傅里叶变换红外光谱仪、椭偏仪等表征技术，研究不同N2O与NH3流量比R条件下薄膜的组分、光学常数及红外吸收特性。研究结果表明：随着流量比R的增加，SiOxNy薄膜中O的相对百分含量提高，N含量降低，而Si含量基本不变；薄膜由于Si—O、Si—N键形成的吸收峰峰值波长向短波（高波数）移动,变化范围为11.6μm(波数860cm-1)~9.4μm(波数1063cm-1)，且吸收峰的宽度先增大后减小。此外，薄膜的折射率与薄膜中H含量也随流量比R的增加而降低。相比于SiOx,SiNx薄膜，组分特定的SiOxNy薄膜的吸收峰最宽且在长波红外窗口8~12μm内吸收强度最大，说明SiOxNy薄膜是一种良好的热探测器选择吸收层材料。
%K 光学
%K 薄膜
%K 氮氧化硅
%K 红外吸收
%K 等离子体增强化学气相沉积
%U http://118.145.16.231/jweb_bgxb/CN/abstract/abstract655.shtml