%0 Journal Article
%T 冷等离子体聚合技术制备推进剂阻挡层的研究
%A 李广涛
%A 李荣志
%A 朱鹤孙
%J 兵工学报
%P 32-37
%D 1991
%X ？本文将冷等离子体聚合技术应用于推进剂药柱包覆，制备出了与药柱化学相容性好、附着力强、力学性能匹配、抗NG迁移和与包覆层粘接性优良的复合阻挡层，解决了推进剂装药中存在的NG迁移和包覆层脱粘问题，开辟了推进剂包覆技术的新领域．
%K 等离子体
%K 聚合
%K 推进剂
%K 阻挡层
%U http://118.145.16.231/jweb_bgxb/CN/abstract/abstract4195.shtml