%0 Journal Article
%T 非平衡磁控溅射沉积类石墨膜及其摩擦磨损性能研究
%A 付永辉
%A 朱晓东
%A 何家文
%A YANGShi―Cai
%J 摩擦学学报
%D 2003
%X 利用全封闭非平衡磁控溅射技术制备了高硬度类石墨膜，对不同工艺所制备的薄膜进行了微观分析，测定了薄膜的厚度、膜基结合强度和硬度，并考察了薄膜的摩擦学性能和腐蚀性能．结果表明：采用全封闭非平衡磁控溅射方法制备的以sp^2杂化为主的类石墨膜具有高硬度、低摩擦系数和良好的抗磨及抗腐蚀性能；摩擦系数随载荷的增大而减小，而磨损率同硬度呈反比关系；加入适量Cr可软化薄膜，提高膜基结合强度，从而优化薄膜的性能．
%K 非平衡磁控溅射
%K 高硬度类石墨膜
%K 摩擦学性能
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=200306104&flag=1