%0 Journal Article
%T 脉冲直流等离子体增强化学气相沉积Ti―Si―N纳米薄膜的摩擦磨损特性
%A 马大衍
%A 王昕
%A 马胜利
%A 徐可为
%A 徐洮
%J 摩擦学学报
%D 2003
%X 采用工业型脉冲等离子体增强化学气相沉积设备，通过调节氯化物混合比例控制薄膜成分，在高速钢基材表面于550℃下沉积由纳米晶TiN和纳米非晶Si3N4组成的Ti―Si―N复合薄膜；采用扫描电子显微镜、透射电子显微镜、X射线衍射仪及X射线光电子能谱仪分析了薄膜的结构、组成和化学状态；采用球-盘高温摩擦磨损试验机考察了薄膜同GCrl5钢对摩时的摩擦磨损性能．结果表明：薄膜的Si含量在0％～35％范围内变化，随着Si含量增大，薄膜沉积速率增大，但薄膜由致密形态向大颗粒疏松态过渡；薄膜的晶粒尺寸为7～50nm；Ti―Si―N薄膜的显微硬度高于TiN的硬度，最高可达60GPa；引入少量Si可以显著改善TiN薄膜的抗磨性能，但薄膜的摩擦系数较高(室温下约0．8、400℃下约0．7)；随着Si含量的增加，Ti―Si―N薄膜的耐磨性能有所降低，其原因在于引入导电性较差的Si元素使得薄膜的组织变得疏松．
%K 等离子体增强化学气相沉积（PCVD）
%K Ti―Si―N
%K 纳米薄膜
%K 摩擦磨损性能
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=200306107&flag=1