%0 Journal Article
%T 纳米CeO2颗粒的制备及其化学机械抛光性能研究
%A 李霞章
%A 陈杨
%A 陈志刚
%A 陈建清
%A 倪超英
%J 摩擦学学报
%D 2007
%X 以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料制备出不同粒径的纳米CeO2粉体颗粒,将纳米CeO2粉体配制成抛光液并用于砷化镓晶片的化学机械抛光.结果表明,不同尺寸的纳米磨料具有不同的抛光效果,采用粒度8nm的CeO2磨料抛光后微观表面粗糙度最低(0.740nm),采用粒度小于或大于8nm的CeO2磨料抛光后其表面粗糙度值均较高.通过简化的固-固接触模型分析,认为当粒度过小时,磨料难以穿透软质层,表现为化学抛光为主,表面凹坑较多,表面粗糙度较高;当粒度大于一定值时,随着磨料粒度增加,嵌入基体部分的深度加大,使得粗糙度出现上升趋势.提出当磨料嵌入晶片表面的最大深度等于或接近于软质层厚度时,在理论上应具有最佳的抛光效果.
%K 纳米CeO2
%K 化学机械抛光
%K 磨料粒径
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20070101&flag=1