%0 Journal Article
%T 空心阴极(HCD)离子镀及其在工具工业中的应用(续完)
%A 小宫宗治
%J 摩擦学学报
%D 1983
%X 十、HCD反应沉积的氮化钛膜HCD反应沉积氮化钛膜的镀膜条件可反映所镀氮化钛膜的色泽特征,如佐藤等人通过控制N_2、H_2的分压得到了各种颜色的膜。金色的膜经X线衍射分析可知是由Ti_2N或TiN+Ti_2N组成的。这种膜的硬度大于或等于2000公斤/毫米~2(DPHN)。该膜的镀膜典型参数如下:氩气流为23厘米~3/分(标准温度、压强),氩分压为7.4×10~(-4)托,放电参数为40伏、80安培,靶距为14厘米,膜的典型沉积率为0.25微米/分。氮气
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=19830220&flag=1