%0 Journal Article
%T 离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究
%A 庄大明
%A 张绪寿
%J 摩擦学学报
%D 1995
%X 在离子束增强沉积的Ｓｉ３Ｎ４膜和ＴｉＮ膜的表面，分别利用离子增强沉积法和磁控溅射法制取了ＭｏＳｘ薄膜。在ＳＲＶ摩擦磨损试验机上，对几种薄膜试样与５２１００钢板样作了对比试验研究。结果表明，两种ＭｏＳｘ薄膜都具有良好的摩擦磨损性能。
%K 离子束增强沉积
%K 磁控溅射
%K 薄膜
%K 磨损
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=19950461&flag=1