%0 Journal Article
%T 工艺因素对离子束增强沉积氮化硅薄膜组成与结构的影响
%A 庄大明
%A 张绪寿
%J 摩擦学学报
%D 1995
%X 本世纪８０年代以来，利用各种表面技术陶瓷材料涂覆于金属零件表面的研究发展很快，离子束增强沉积技术以其突出的优点更受到重视，利用这种技术合成陶瓷薄膜是一种新的物理气相沉积方法，而沉积薄膜的质量，性能和成膜速度都会受到工艺因素的影响，由于氮化硅陶瓷的硬度高，韧性和高温稳定性都比较好，是一种相当理想的耐磨材料，且其还有一定的自润滑性，因此，着重研究了氮离子束流和束压，氮离子与硅原子在基片上的达比，以及不
%K 离子束增强沉积
%K 化学组成
%K 氮化硅
%K 薄膜
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=19950218&flag=1