%0 Journal Article
%T Ti/Ni过渡层对WS2薄膜摩擦学性能影响
%A 杜广煜
%A 巴德纯
%A 王晓光
%J 摩擦学学报
%D 2009
%X 采用射频溅射法,通过预先制备Ti和Ni2种过渡层的工艺在3Cr13马氏体不锈钢基片上制备了硫化钨薄膜,通过与无过渡层的射频溅射WS2薄膜对比,研究了2种过渡层对薄膜性能的影响.3种样品的物相分析,表面形貌观察,微区化学成分测定,膜基结合力和薄膜摩擦系数测试等结果表明,Ti过渡层对硫化钨薄膜结构和S/W原子比没有明显的影响,对膜层的摩擦系数影响也不大,但薄膜耐磨性有所提高.而Ni过渡层虽对S/W原子比无明显影响,但却明显地提高薄膜Ⅱ型织构(基面取向)的强度,从而降低了薄膜的摩擦系数,提高了薄膜耐磨性.
%K 射频溅射
%K 过渡层
%K 物相分析
%K 摩擦系数
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20090224&flag=1