%0 Journal Article
%T 磁控溅射沉积高承载、低摩擦MoS2/Ti复合薄膜
%A 关晓艳
%A 王立平
%A 张广安
%A 蒲吉斌
%J 摩擦学学报
%D 2015
%R 10.16078/j.tribology.2015.03.003
%X 采用磁控溅射技术制备了不同Ti含量的MoS2/Ti复合薄膜,利用SEM、AFM、纳米压痕仪、XRD和CSM摩擦试验机分析了复合薄膜的结构、力学和摩擦学性能.结果表明:复合薄膜结构致密,表面光滑平整,且具有较高的硬度,Ti含量较低的MoS2/Ti复合薄膜呈现以(002)基面为主的择优取向;在大气环境下,赫兹接触应力为2.5GPa的摩擦工况下,Ti含量较低的MoS2/Ti复合薄膜的摩擦系数低至0.02,磨损率低至10-17m3/(N·m)数量级,呈现出高承载、低摩擦、耐磨损的优异摩擦学性能.这是由于Ti的掺杂一方面提高了复合薄膜的力学和抗氧化性能,另一方面复合薄膜的(002)基面取向对其摩擦磨损性能发挥了重要作用.
%K MoS2/Ti复合薄膜
%K 高承载
%K (002)基面
%K 摩擦学性能
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20150303&flag=1