%0 Journal Article
%T 岩矿光薄片磨？新工艺
%A 吴蕴珉
%J 矿物岩石
%D 1988
%X 岩矿光薄片磨抛工艺,过去一直？用氧化铬粉剂,这种粉剂毒性大,有致癌作用,使用时有损磨片工人的健康,清洗已抛光薄片的残液,通过下水道排放,可导致环境污染。目前我国各岩矿实验室切磨抛仪器设备及工艺过程,基本上仍是五、六十年代的设备。广大磨片工人长期在污染严重、设备陈旧的条件下,从事低效率劳动。磨制出的光薄片在精度、质量等方面,与国外同类实验室的差距很大,已远远不能满足岩石学、砂矿学向微观、定量等方向发展的要求。对磨抛工艺的改革已刻不容缓。
%U http://www.yskw.ac.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=19880105&flag=1