%0 Journal Article
%T 立式冷壁反应器中化学气相淀积TiN涂层 Ⅰ.淀积参数对反应速率和涂层质量的影响
%A 丁平
%A 盛明慧
%A 丛德滋
%A 韩杰
%A 陈良恒
%A 袁渭康
%J 华东理工大学学报
%D 1990
%X 在立式冷壁CVD反应器中,用TiCl_4-H_2N_2和TiCl_4-H_2N_2-Ar为反应物源,在YT15硬质合金刀片上淀积TiN涂层。研究了淀积参数对淀积薄膜质量和淀积速率的影响。得到的TiN_x涂层外观光洁,呈金黄色,x为0.8～1.6,淀积速率15～60m~(-6)/h,显微硬度1800～2200HV,淀积反应为扩散过程控制;表观活化能为46.5kJ/mol。实验表明,TiN在冷壁反应器中的淀积速率远大于在热壁反应器中的淀积速率。
%K 化学气相淀积
%K 氮化钛
%K 反应速率
%K 涂层质量
%K 冷壁反应器
%U http://journal.ecust.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=19900344&flag=1