%0 Journal Article
%T 添加剂对铜沉积过程的影响
%A 鲁道荣
%A 何建波
%A 李学良
%A 朱云贵
%J 华东理工大学学报
%D 2004
%X 用线性扫描伏安法、循环伏安法、XRD及SEM研究了添加剂Cl^-、骨胶(Glue)和硫脲(NH2)2CS在铜沉积过程中的行为。结果表明：当Cl^-、Glue、(NH2)2CS单独存在于电解液中时，Cl^-的去极化作用使铜沉积反应的峰电流密度增大；Glue和(NH2)2CS的极化作用使铜沉积反应的峰电流密度降低，峰电势负移；当Cl^-、Glue和(NH2)2CS共存于电解液中时对铜沉积过程有较强的极化作用，会降低铜沉积反应的极限电流密度和峰电流密度。SEM和XRD测试表明：过量的硫脲会改变铜沉积的晶面择优取向，使铜结晶粒度变大。
%K 铜
%K 沉积过程
%K 电解精炼
%K 添加剂
%K 极化
%K 晶体微观结构
%U http://journal.ecust.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20040105&flag=1