%0 Journal Article
%T CF4等离子体表面氟化PTMSP膜
%A 林晓
%A 肖军
%J 功能高分子学报
%P 306-311
%D 1992
%X 本文对聚三甲基硅基丙炔(PTMSP)膜进行CF_4等离子体表面氟化研究。改性的PTMSP膜氧氮选择性显著提高(P_(O_2)/P_(N_2)=4-5,P_(O_2)=10~2-10~3barrer)。等离子体改性条件,如处理时间、单体压力、放电功率对PTMSP膜透气性的影响进行了研究。XPS谱分析表明改性后,膜表层化学组成发生了显著变化、碳硅含量大幅度减小,氟含量随着处理程度的增加而增加,氟碳比与膜的选择性有着密切的关系,当 F/C>1时,膜的P_(O_2)/P_(N_2)可达4以上。
%K PTMSP等离子体表面氟化XPS膜
%U http://gngfzxb.ecust.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=19920467&flag=1