%0 Journal Article
%T D4等离子体聚合制备超薄抗磨损膜
%A 马於光
%A 杨梅林
%J 功能高分子学报
%P 65-70
%D 1992
%X 在本工作中,利用射频等离子体成功地制备了具有致密、耐腐、绝缘性能的超薄抗磨损膜。用耐磨仪测其硬度,磨损转数已达10000转以上。膜的面电阻率达10~(12)Ω数量级。PPD_4膜耐强酸和几乎所有的有机溶剂。聚合过程主要是由D_4单体的开环和消除甲基基团产生自由基活性点进行的。开环反应对线性聚合物的生成有贡献,甲基消除反应对支化交联聚合物的生成有贡献。PPD_4膜的交联度可由放电功率来调节。
%K 抗磨损膜等离子体聚合有机硅
%U http://gngfzxb.ecust.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=19920117&flag=1