%0 Journal Article
%T 用哈克流变仪模拟D3F反应挤出阴离子开环聚合反应
%A 蒋蔚
%A 高亚娟
%A 郑安呐
%A 周颖坚
%A 许祥
%A 胡福增
%J 功能高分子学报
%D 2008
%X 采用哈克流变仪模拟1,3,5-三甲基-1,3,5-三(3′,3′,3′-三氟丙基)环三硅氧烷(D3F)阴离子开环聚合的反应挤出试验.通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定其绝对分子量,并通过红外光谱(FT-IR)和核磁共振氢谱(1H-NMR)表征其结构.研究表明:在促进剂乙酸乙酯作用下,120 ℃下反应4 min可得到数均分子量为2.45×105的氟硅聚合物,反应温度、时间对制备氟硅聚合物有一定的影响.
%K 氟硅聚合物
%K 哈克流变仪
%K 反应挤出
%K 阴离子开环聚合
%U http://gngfzxb.ecust.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20080489&flag=1