%0 Journal Article
%T 三氯乙酸阴离子表面印迹材料的制备及其识别特性
%A 张婷婷
%A 高保娇
%A 李晓静
%J 功能高分子学报
%D 2013
%X 使用偶联剂γ-氨丙基三甲氧基硅烷(AMPS)对微米级硅胶微粒进行表面改性, 制得表面键合有氨基的改性硅胶微粒AMPS-SiO2。在水溶液体系中, 凭借静电相互作用, 三氯乙酸(TCAA) 阴离子与阳离子单体丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(DAC)相结合; 溶液中的过硫酸盐与改性微粒AMPS SiO2表面的氨基构成氧化还原引发体系, 在硅胶微粒表面产生自由基, 使DAC及交联剂N,N′-亚甲基双丙烯酰胺(MBA) 在硅胶微粒表面的接枝交联聚合与TCAA阴离子的表面印迹同步进行; 洗脱模板离子后, 制得了TCAA阴离子表面印迹材料IIP-PDAC/SiO2。以化学结构与TCAA十分相似的一氯乙酸(MCAA)为对比物, 采用静态结合、动态结合及竞争性吸附等实验方法, 深入考察研究了阴离子表面印迹材料IIP-PDAC/SiO2对TCAA阴离子的识别与结合性能。研究结果表明, TCAA阴离子表面印迹材料IIP-PDAC/SiO2对TCAA具有良好的的识别选择性与结合亲和性, 相对于MCAA阴离子, IIP-PDAC/SiO2对TCAA阴离子的识别选择性系数为3.612。
%K 表面引发
%K 接枝聚合
%K 静电相互作用
%K 离子表面印迹
%K 三氯乙酸
%K 离子识别
%U http://gngfzxb.ecust.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20130308&flag=1