%0 Journal Article
%T 热处理对ITO薄膜光电性能和抗蚀刻性的影响
%A 张永爱
%A 姚亮
%A 郭太良
%J 福州大学学报(自然科学版)
%D 2008
%X 利用不同的热处理温度对磁控溅射在玻璃基底的ITO薄膜进行退火处理.借助于原子力显微镜(AFM)、分光辐射计、四探针电阻测试仪等测试手段对不同热处理后的ITO薄膜样品进行表征,研究了不同热处理温度对ITO薄膜表面形貌、面电阻、透光率及抗刻蚀性能的影响.结果表明,随着退火温度的升高,ITO薄膜表面粗糙度增加,面电阻增大,在可见光区的透光率变大,耐刻蚀性增强.
%K ITO
%K 热处理
%K 光电性能
%K 抗蚀刻性
%U http://xbzrb.fzu.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=200804110&flag=1