%0 Journal Article
%T SiO2表面硅钼酸的稳定性和还原性
%A 张昭良
%A 马骏
%J 分子催化
%D 2000
%X 采用ＦＴ－ＩＲ、ＸＲＤ、ＢＥＴ、ＴＰＲ等方法，研究了ＳｉＯ２负载硅钼杂多酸的热稳定性和还原性。结果表明，虽然ＳｉＭｏ的负载量达到２个理论单层，但仍以非晶形态高度分散在ＳｉＯ２上；负载的硅钼酸稳定性提高，热分解温度在３５０～６００℃，同时，可还原性能降低，杂多酸的稳定性和ＴＰＲ性能相关。
%K 杂多酸硅钼酸热稳定性二氧化硅催化剂
%U http://www.jmcchina.org/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20000484&flag=1