%0 Journal Article
%T 含缺陷位TS-1催化氧化噻吩及甲基噻吩反应机理的量子化学研究
%A 王寒露
%J 分子催化
%D 2015
%X 用ONIOM2方法7T/45T模型优化了含缺陷位TS-1分子筛（TS-d）催化氧化噻吩及甲基噻吩各步反应的反应物、过渡态、中间体和产物的结构. 我们结合实验数据, 得到的路线如下：首先, TS-d吸附H2O2, 然后经历质子转移生成单齿或双齿超氧化物中间体. 质子转移有两条途径, 单质子和双质子转移. 研究表明双齿比单齿超氧化物中间体的能量更低，是更稳定的中间体. 因此采用双齿中间体继续反应. 噻吩和甲基噻吩氧化先形成亚砜, 再进一步氧化生成砜. 计算数据与实验结果一致.
%K 分子筛
%K 氧化脱硫
%K ONIOM2
%K 噻吩
%K 反应机理
%U http://www.jmcchina.org/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20150811001&flag=1