%0 Journal Article
%T 催化新材料γ－Mo_2N的合成及表征
%A 张耀军
%A 李新生
%A 魏昭彬
%A 应品良
%A 苗延芬
%A 王力
%A 辛勤
%J 分子催化
%D 1996
%X 通过程序升温控制的ＭｏＯ３与ＮＨ３的Ｔｏｐｏｔａｃｔｉｃ反应，合成出钝化后比表面达１４０ｍ２／ｇ的γ－Ｍｏ２Ｎ。研究发现ＮＨ３空速、升温速率、前身态ＭｏＯ３粒度等对高比表面γ－Ｍｏ２Ｎ的形成影响很大。γ－Ｍｏ２Ｎ的比表面与孔径分布呈一定的规律性变化。ＸＲＤ测试结果表明高比表面γ－Ｍｏ２Ｎ与低比表面γ－Ｍｏ２Ｎ的衍射峰强度有很大差异。同时文中对ＭｏＯ３的氮化过程进行了探讨，结果表明ＭｏＯ３在７７３Ｋ时已生成高比表面的γ－Ｍｏ２Ｎ，比文献报道的合成温度低２００Ｋ左右．
%K γ－Mo_2N
%K BET比表面
%K 晶相表征
%K 孔径分布
%U http://www.jmcchina.org/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=19960221&flag=1