%0 Journal Article
%T CH3（ad）在清洁及预吸附氧Pd（100）表面的热脱附性能
%A 苏彩丽
%A 魏绪明
%J 分子催化
%D 1997
%X 用高分辨电子能量损失谱，热脱附谱，紫外光电子能谱研究了ＣＨ３在清洁及预吸附氧Ｐｄ表面上的热稳定性。ＣＨ３由ＣＨ３Ｉ在Ｐｄ表面的热分解来产生。ＣＨ３Ｉ的ＨＲＥＥＬＳ表明，ＣＨ３中的Ｃ－Ｈ键近似与表面平行，ＣＨ３Ｉ在Ｐｄ表面低于１１０Ｋ时已裂解为ＣＨ３和Ｉ，大量的ＣＨ３在２００－２１０Ｋ的温度范围内的Ｈ结合并以ＣＨ４的形式脱附，但在氧改性表面，ＣＨ４脱附的温度范围变宽，脱附温度有所提高，可能是由于表面
%K 吸附脱附热稳定性钯结构氢化碳吸附剂
%U http://www.jmcchina.org/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=19970106&flag=1