%0 Journal Article
%T BF_2~+分子离子注入硅中的硼原子深度分布的核反应分析研究
%A 廖常庚
%J 科学通报
%P 796-796
%D 1989
%X 分子离子注入半导体材料是一个有效的降低杂质原子能量,快速行成非晶层的有效方法。用BF_2~+分子离子注入硅中形成的浅结器件可能较B~+原子离子注入更为有益。测定和研究BF_2~+分子离子注入硅后硼原子的深度分布,并与B~+原子离子注入的深度
%U http://csb.scichina.com:8080/CN/abstract/abstract359093.shtml