%0 Journal Article
%T 双离子束溅射法生长MgO薄膜
%A 李贻杰
%J 科学通报
%P 308-308
%D 1993
%X 氧化物薄膜近几年来受到了人们普遍的重视。MgO、SiO_2和ZrO_2等材料不仅可以用作各种电子器件中的绝缘层,还起到了隔离层的作用,可有效地阻止多层膜之间因互扩散造成的界面反应。迄今为止,实验已经证实许多材料都可作为很好的隔离层或多层膜中的绝缘层,包括SrTIO_3、Y-ZrO_2、PrBa_2Cu_3O_7、Y_2O_3、CeO_2和MgO等。这些材料在不同的器件制备中具有不同的作用,可供选择。MgO是一种离子性很强的氧化物材料。属NaCl结构,溶点高达2800℃,介电常数为10,自由能最低的低指数解理面为{100}面,晶格常数
%K MgO
%K 薄膜
%K 离子束溅射
%K 外延生长
%U http://csb.scichina.com:8080/CN/abstract/abstract362386.shtml