%0 Journal Article
%T Ni80Fe20/Cu多层膜巨磁电阻与微结构的关系
%A 姜宏伟
%A 罗光明
%A 麦振洪
%A 赖武彦
%J 科学通报
%P 1485-1488
%D 1998
%X 采用磁控溅射方法,在不同溅射气压下制备了(111)取向的具有巨磁电阻效应的Ni80Fe20/Cu金属多层膜.室温下,饱和磁电阻值随着Cu层厚度的增加呈振荡变化,在Cu层厚度tCu=1.0,2.2nm时,磁电阻出现2个峰值.对应于溅射气压为0.25Pa的样品,磁电阻分别为19.4%和11.6%,溅射气压为0.45Pa的样品,磁电阻分别为11.2%和1%.采用同步辐射光源在CuK吸收边能量位置(8.989keV)对不同溅射气压下制备的多层膜样品做了X光小角衍射和漫散射,标定了界面粗糙度,用DAFS(Diffractionanomalousfinestructurescattering)方法研究了NiFe层和Cu层各自的局域结构.结果表明溅射气压对多层膜界面的粗糙度有明显的影响,而多层膜界面的粗糙度对磁电阻亦有明显的影响
%K 多层膜
%K 巨磁电阻
%K 同步辐射
%K 界面粗糙度
%U http://csb.scichina.com:8080/CN/abstract/abstract365609.shtml