%0 Journal Article
%T 新型金属卟啉共轭聚合物的合成与光电流响应
%A 赵金玲
%A 李滨松
%A 薄志山
%J 科学通报
%P 524-531
%D 2006
%X 采用Sonogashira偶联反应,制备了几种以芴或咔唑为间隔基的新型金属卟啉共轭聚合物.这些新型金属卟啉共轭聚合物具有较高的分子量、很好的溶解性和成膜性.其光谱性质和光电流响应结果表明,聚合物中卟啉的含量是影响卟啉聚合物光电流响应的主要因素,且咔唑基团的引入有利于卟啉聚合物光电流的产生.
%K 卟啉
%K 共轭聚合物
%K 光电流响应
%U http://csb.scichina.com:8080/CN/abstract/abstract370019.shtml