%0 Journal Article
%T 低温低氧压下激光法在金属基底上沉积高温超导薄膜的缓冲层钇稳定氧化锆
%A 熊旭明
%A 周岳亮
%A 陈正豪
%A 吕惠宾
%A 朱爱军
%A 崔大复
%A 杨国桢
%J 科学通报
%P 1265-1269
%D 1997
%X 制备高临界电流Jc的高温超导线材与带材是高温超导走向强电应用的重要课题.与Bi系及T1系相比,YBa2Cu3O(7-δ(YBCO)的不可逆线低,在液氮温区仍有很强的钉扎力.YBa2Cu3O(7-δ已在单晶基片上生长出很高质量的薄膜,J.高达(5～6)×106A/cm2.但是单晶基底对强电应用是不利的,为了使YBCO薄膜的优良性能应用于带材,必须把YBCO沉积到可弯曲并且便宜的金属基底上.为防止金属基底与YBCO之间的扩散反应,用钇稳定氧化锆(YSZ)做缓冲层.但是用这种薄膜沉积法得到的带材由于不是外延生长,Jc为103～104A/cm2.
%K YSZ
%K 缓冲层
%K 金属基底
%K PLD
%U http://csb.scichina.com:8080/CN/abstract/abstract364780.shtml