%0 Journal Article
%T Si3N4/BN纳米复合粉体的制备
%A 王向东
%A 乔冠军
%A 楠濑
%A 尚史
%A 金志浩
%J 科学通报
%P 132-135
%D 2003
%X 采用化学溶液法,溶解分散H3BO3,CO(NH2)2及α-Si3N4微粉制成悬浮液,干燥后以氢还原氮化法制备出纳米氮化硼包覆微米氮化硅的Si3N4/BN纳米复合粉体.利用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对复合粉体的形成过程及形貌结构研究发现当反应温度为1100℃时,包覆层中除在临近α-Si3N4颗粒表面有少量涡流状氮化硼(t-BN)生成外,其主要组成部分为非晶态BN.以上复合粉体经1450℃氮气氛下处理后,非晶态氮化硼与涡流状氮化硼转化为h-BN.所制复合粉体经1800℃热压烧结获得加工性能良好的复相陶瓷.
%K 氮化硅
%K 氮化硼
%K 纳米复合粉
%K 微结构
%K 加工性能
%U http://csb.scichina.com:8080/CN/abstract/abstract368492.shtml