%0 Journal Article
%T 钛合金5621S及含钕钛合金5621S氧化膜的应力
%A 李美栓
%A 李铁藩
%J 腐蚀科学与防护技术
%P 92-95
%D 1992
%X 测量了含钕及不含钕两种钛合金5621S于600-800℃在氧气中氧化条件下氧化膜的生长应力和于800℃氧化不同时间后氧化膜的残余应力。通过氧化膜的生长应力、热应力、残余应力大小的比较,表明Ti5621S合金中添加钕能降低氧化膜的生长应力。含钕及不含钕两种钛合金氧化膜的生长应力和热应力同数量级。于冷却过程中若钛合金5621S氧化膜发生显著破裂,由于应力充分释放,其残余应力反较含钕的钛合金5621S氧化膜的低。
%K 氧化膜应力
%K 残余应力
%K 稀土钕
%K Ti5621S合金
%K 高温氧化
%U http://www.cspt.org.cn/CN/abstract/abstract18344.shtml