%0 Journal Article
%T 304L不锈钢钝化膜半导体性能研究
%A 李金波
%A 郑茂盛
%A 朱杰武
%J 腐蚀科学与防护技术
%P 348-352
%D 2006
%X 利用极化曲线、电容测量法和X射线光电子能谱(XPS)研究了304L不锈钢在0.5mol/LNaHCO3溶液中所形成的钝化膜的半导体性能，同时对影响钝化膜半导体性能的因素进行了讨论.结果表明在电位小于-0.4V范围内，膜呈p型半导体特性；当电位处于-0.4V至0.26V范围内膜呈n型半导体特性.随着测试频率的降低及成膜电位的负移，Mott-Schottky曲线的斜率减小，表明膜内的杂质密度增加。氯离子的加入使得MS直线的斜率减小，增加膜内的杂质密度，容易造成点蚀的发生.XPS测试结果表明钝化膜主要由内层的铬氧化物和外层的铁氧化物组成，这与以前的研究结果相一致.
%K 电容测量法
%K 半导体性能
%K 杂质密度
%U http://www.cspt.org.cn/CN/abstract/abstract715.shtml