%0 Journal Article
%T 块体纳米晶工业纯铁在0.4mol/LHCl溶液中的电化学腐蚀行为
%A 孙淼
%A 张艳
%A 王胜刚
%J 腐蚀科学与防护技术
%P 293-297
%D 2011
%X 借助动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)测量,研究块体纳米晶工业纯铁(BNII)和粗晶工业纯铁(CPII)在室温0.4mol/LHCl溶液中的电化学腐蚀行为;用扫描电子显微镜(SEM)观察腐蚀后的表面形貌.结果表明,与CPII相比,BNII的自腐蚀电位Ecorr正向移动43mV,自腐蚀电流Icorr由68.37μA？cm-2减小为29.55μA？cm-2;电荷转移电阻Rt由427.0Ω？cm2增大到890.1Ω？cm2.两种材料发生的点蚀呈不同的形态BNII的点蚀孔小而浅,腐蚀深度比较均匀,而CPII的腐蚀表面形成的点蚀孔深且孔径较大.与CPII相比,BNII在HCl溶液中的耐腐蚀性能明显提高.
%K 块体纳米晶工业纯铁(BNII)
%K 深度轧制
%K 盐酸溶液
%K 腐蚀
%U http://www.cspt.org.cn/CN/abstract/abstract19780.shtml