%0 Journal Article
%T 微晶化对Ni20Cr合金热生长氧化膜应力的影响
%A 张洋
%A 宗广霞
%A 王福会
%A 朱圣龙
%J 腐蚀科学与防护技术
%P 434-436
%D 2011
%X 利用氧化膜应力原位测量装置对Ni20Cr微晶涂层/合金体系在1000℃空气中氧化过程中发生的弯曲挠度变化进行测量.结果表明,微晶涂层1000℃氧化所形成的Cr2O3氧化膜中存在压应力,应力绝对值高于相同厚度的合金表面的热生长氧化膜,其原因在于涂层/Cr2O3界面结合好,应力释放较小.降温冷却过程中,通过微晶涂层的蠕变使部分氧化膜热应力得以释放.
%K 微晶化
%K Ni20Cr合金
%K 氧化膜应力
%U http://www.cspt.org.cn/CN/abstract/abstract19940.shtml