%0 Journal Article
%T MBO缓蚀膜中Cu的价态及成膜机制
%A 严川伟
%A 林海潮
%A 曹楚南
%J 腐蚀科学与防护技术
%P 12-15
%D 2001
%X 用光电子能谱(XPS)、红外光谱(IR)和扫描隧道显微镜(STM)，对Cu在含NaCl的2-琉基苯并唑(MBO)溶液中处理后，其表面所形成的缓蚀膜进行了研究.缓蚀膜的Cu2p\-\{3／2\}结合能值为932.3eV，在Cu2p\-\{3/2\}和Cu2p\-\{1／2\}之间没有“卫星峰”存在，且俄歇峰CuLMM的结合能为337.6eV，表现了典型的一价Cu化合物的特征.该缓蚀膜的红外光谱与MBO的一价Cu的合成化合物的红外谱图相一致.在形成缓蚀膜前后，N1s和S2p的结合能变化显著，表明MBO分子可能通过S和N原于与一价铜离子键合的.原位的STM表明，Cl\+-的存在可使MBO在Cu表面形成致密的三维膜.对MBO缓蚀膜的形成机理进行了分析，解释了在MBO缓蚀膜形成过程中Cu腐蚀电位的变化.
%K Cu
%K 腐蚀
%K MBO
%K 缓蚀
%U http://www.cspt.org.cn/CN/abstract/abstract597.shtml