%0 Journal Article
%T 三氯化铁除砷和镉的机理
%A 郭莉
%A 赵燕鹏
%A 杜冬云
%J 化工学报
%P 4118-4122
%D 2014
%R 10.3969/j.issn.0438-1157.2014.10.048
%X 采用电荷分布多位络合模型模拟（CD-MUSIC）、XPS、FTIR和Zeta电位分析的方法研究了三氯化铁去除As（Ⅴ）、Cd（Ⅱ）的机理。结果表明：在pH3～7范围内，砷、镉通过竞争铁氧化物表面的有效作用位点而相互抑制；而在pH7～10范围内，Cd（Ⅱ）主要以Cd（OH）2沉淀的方式得以去除，并通过共沉淀作用促进砷的去除。根据CD-MUSIC模拟结果，As（Ⅴ）主要形成单齿单核质子化（FeOAsO3H1.5-、FeOAsO（H2O）20.5-）的表面配合物，结合常数分别为63.04、66.50；而Cd（Ⅱ）则以FeOHCd1.5+形态结合在铁氧化物的表面，结合常数为31.05，其含量随着pH的升高逐渐减少。
%K 三氯化铁
%K 砷
%K 镉去除机理
%K 电荷分布多位络合模型
%U http://www.hgxb.com.cn/CN/abstract/abstract16080.shtml