%0 Journal Article
%T 膜分散微反应器沉淀法制备高孔容SiO2材料
%A 李亚丹
%A 王玉军
%A 张卫东
%A 骆广生
%J 化工学报
%P 2276-2284
%D 2013
%R 10.3969/j.issn.0438-1157.2013.06.050
%K 消光剂
%K 二氧化硅
%K 高孔容
%K 高比表面积
%K 快速沉淀
%K 膜分散微反应器
%U http://www.hgxb.com.cn/CN/abstract/abstract13881.shtml