%0 Journal Article
%T 原位漫反射红外光谱研究NO和NH3在CuO/γ-Al2O3催化剂上的吸附行为
%A 孙路石
%A 赵清森
%A 向军
%A 石金明
%A 王乐乐
%A 胡松
%A 苏胜
%J 化工学报
%P 444-449
%D 2009
%X 利用原位漫反射红外光谱法在线研究NH3和NO在CuO/γ-Al2O3催化剂表面吸附和氧化的反应过程。NH3不仅能被吸附在L酸位，也能被吸附在B酸位。NH3氧化脱氢形成NH2物种是反应的中间步骤。NO和NO2以多种形态吸附在催化剂表面。O2存在条件下有利于吸附的NO物种被氧化成高价的NO2。暂态实验中，吸附NH3饱和的催化剂载体通入NO和O2后，共价吸附的NH3首先消失，而NH+4没有参加反应。吸附NO饱和的催化剂载体通入NH3和O2后，吸附态NO特征峰基本没有变化。选择性催化还原反应发生在吸附态NH3和气态NO之间，吸附态的NO及其氧化生成的亚硝基和硝基物种不参与SCR反应。
%U http://www.hgxb.com.cn/CN/abstract/abstract8313.shtml