%0 Journal Article
%T 低温下NO对黄瓜光合荧光及抗氧化特性的影响
%A 肖春燕
%A 邢潇晨
%A 刘会芳
%A 徐巍
%A 崔金霞
%J 核农学报
%P 1083-1091
%D 2014
%R 10.11869/j.issn.100-8551.2014.06.1083
%X 为了探讨低温前NO处理对低温（10℃/6℃）过程中黄瓜幼苗叶绿素荧光和抗氧化酶活性的调控作用，以津研4号黄瓜幼苗为试材，叶面喷施一氧化氮（NO）供体SNP及一氧化氮合酶（NOS）抑制剂L-NAME、NO清除剂PTIO，研究低温胁迫过程中黄瓜幼苗叶绿素荧光参数及抗氧化酶活性的变化。结果显示：低温处理前喷施NO供体SNP仅显著提高了ΦPSⅡ、POD和APX活性，但低温后24h，SNP处理提高了ΦPSⅡ、Fv/Fm、qP、NPQ及光化学反应P部分的份额，提高光能利用率，减少了非光化学耗散Ex的部分，改善光能分配不平衡，这种趋势一直延续到48h，而NOS抑制剂L-NAME和NO清除剂PTIO却能够阻断SNP的作用效果。与低温前相比，各处理（即处理1.喷施蒸馏水；2.喷施蒸馏水+SNP；3.喷施L-NAME+SNP；4.喷施PTIO+SNP）在低温后24和48h，丙二醛（MDA）的积累相比于对照减少了12.82%、16.69%，电导率值降低了13.33%，15.54%，SOD活性上升，CAT酶活性迅速下降，POD先上升后下降，NOS抑制剂L-NAME和NO清除剂PTIO阻碍了SNP在低温前和低温过程中显著诱导抗氧化酶的活性，说明NOS路径产生的NO在调节叶绿素荧光及抗氧化酶活性提高黄瓜耐冷性中发挥着重要作用，同时在低温过程中APX和POD对H2O2调节发挥主要作用。
%K 低温
%K NO
%K 叶绿素荧光
%K 黄瓜
%U http://www.hnxb.org/CN/abstract/abstract11427.shtml