%0 Journal Article
%T 六方MoN的合成新路线
%A 赵旭东
%A RANGE
%A K
%A J
%A 吴翔
%J 高压物理学报
%P 226-229
%D 1999
%R 10.11858/gywlxb.1999.03.012
%X 在高温高压极端条件下利用CH4Cl还原二氧化钼的方法合成了六方MoN。反应条件为：压力2GPa，温度1500℃，时间2h。并利用XRD对合成产物进行了表征。经最小二乘法拟合后结果表明，该合成产物具有六方结构对称性，其晶格常数为a＝0.572nm，c＝0.560nm。经过对其衍射峰位和峰强进行拟合计算，并与实验结果进行比较，结果表明MoN产物的空间群为P63/mmc，其中Mo原子位于2b(0,0,1/4)和6h(x,2x,1/4)，x＝0.489。N原子位于2a(0,0,0)和6g(0.5,0,0)。所采用的方法具有反应条件易达到、反应时间短、反应产物单相性好等特点。
%K 高温高压
%K MoN
%K X射线衍射
%U http://www.gywlxb.cn/CN/abstract/abstract794.shtml