%0 Journal Article
%T 用气相沉积方法在低气压下制备BN的高压相：E-BN、c-BN、w-BN
%A 朱品文
%A 赵永年
%A 邹广田
%A 何志
%J 高压物理学报
%P 111-114
%D 2000
%R 10.11858/gywlxb.2000.02.005
%X 用射频磁控溅射方法得到了低应力立方氮化硼薄膜。红外光谱结果表明，薄膜具有很好的附着力，且含有少量的E-BN和w-BN。电子衍射谱表明薄膜表层是纯立方相。同时利用此方法得到了E-BN薄膜。认为在薄膜生长过程中可能经历了一个从E-BN到c-BN的相转变过程。
%K E-BN
%K c-BN薄膜
%K 相变
%K 高压相材料
%U http://www.gywlxb.cn/CN/abstract/abstract737.shtml