%0 Journal Article
%T 镀膜锰铜压阻计结晶问题研究
%A 施尚春
%A 董石
%A 黄跃
%A 周鸿仁
%J 高压物理学报
%P 254-258
%D 2001
%R 10.11858/gywlxb.2001.04.003
%X 用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜，能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性。但是，锰铜镀膜的结晶晶粒度与工业生产的锰铜合金还有较大差别，宏观物理量表现为：电阻率偏高，冲击压阻系数偏小。真空加热到673K对锰铜镀膜进行热处理1h，可以使晶粒尺寸平均增加约20%，电阻率减小一半，0～80GPa冲击波加载动态标定实验显示：压阻系数增加到2.0～2.6（10-2GPa-1），接近轧制薄箔锰铜计的水平。
%K 镀膜锰铜计
%K 晶粒度
%K 电阻率
%K 压阻系数
%U http://www.gywlxb.cn/CN/abstract/abstract658.shtml